北京MS係列勵磁多波（bō）形電源

主要型號：

主要特點：
   A 可選擇三角波（bō）、矩形波、正弦波三種波形，波形的蕞高（gāo）值和蕞低（dī）值可獨立設置。
   B輸出電（diàn）壓範圍：-40V~+40V。
   C波形頻率範（fàn）圍：0.1-50Hz
   D三角波、矩形（xíng）波占空（kōng）比10%~90%
   E 可選擇手（shǒu）動控製/模擬量接口控（kòng）製，可選配RS485通訊接（jiē）口。
采用（yòng）先進的PWM脈寬調製技術，使用（yòng）進口IGBT或MOSFET作為功率開關器件，
體積小、重量輕、功能全、性能穩定可靠，生產工藝嚴格完（wán）善。
該係列產品采用先進的DSP控製係統，充（chōng）分保證鍍膜工藝的重複（fù）性，
並且具有抑製靶材弧光（guāng）放電及抗（kàng）短路功（gōng）能，
具有極佳（jiā）的負載匹配能力，既（jì）保證了靶麵清洗工藝的穩定性，又提高了靶麵清洗速度；
主要參數均可大範圍連（lián）續調節；
方便（biàn）維護，可（kě）靠（kào）性高；
PLC接口和RS485接口擴展功能，方便實現自（zì）動化控（kòng）製。

主要用途：

MS係列勵磁多波形電源選擇多種（zhǒng）電（diàn）壓波形（xíng）輸（shū）出。通過驅動多弧靶外圍磁場（chǎng）線圈，產生周期性（xìng）可變磁磁場（chǎng），使多弧輝（huī）光由原來的集中放電變為均勻放電，提高工件膜層質量

現在工業區，在範圍上擴展的是越來越廣，跟隨我們行業的發展，現在機械（xiè）設備研發的是越（yuè）來越多，當然啦（lā），研發那（nà）麽多，在（zài）一些加工廠家肯定是要應（yīng）用到的啦，在範圍上，在數量上都不會少，現在我們來（lái）了解下真空鍍膜電源這項項目吧！

1、在光學儀器（qì）中：人（rén）們熟（shú）悉的光（guāng）學儀器有望（wàng）遠鏡、顯微鏡、照相機、測距儀，以及日常生活用品中（zhōng）的鏡子（zǐ）、眼鏡、放大鏡等（děng），它們都（dōu）離（lí）不開鍍膜技術（shù），鍍製的薄膜有反射膜、增透膜和吸收膜（mó）等（děng）幾種。

2、在信息存儲領域中：薄膜（mó）材料作為信息記錄於（yú）存儲（chǔ）介質，有其得天獨厚的（de）優勢：由於薄膜很薄，可（kě）以忽略渦流損耗；磁化反轉極為迅速；與膜麵平行的雙穩態狀態容（róng）易保（bǎo）持等。為（wéi）了更精密地記錄與存儲信息，必然要采用鍍（dù）膜技術。

3、在傳感器方（fāng）麵：在傳感（gǎn）器中，多采用那些電氣性（xìng）質（zhì）相對於物理量、化學量及其變化來說，極為敏感的半導體材料。此外，其中，大多數利用的是半導體的表麵、界麵（miàn）的性質，需要盡量增大其麵積，且能（néng）工（gōng）業化、低價格製作，因此，采用薄膜的情況很多。

4、在集成電路製造中：晶體管路中的保護層（SiO2、Si3N4）、電極管（guǎn）線（多晶矽、鋁（lǚ）、銅及其合金）等，多是采用CVD技術、PVCD技術、真（zhēn）空蒸發（fā）金屬技術、磁控濺射技術和射頻濺射技術。可見，氣相沉積是製備集成電路的核（hé）心技術（shù）之一。