北京MS係列勵磁多波形電（diàn）源

主要型號（hào）：

主要（yào）特點：
   A 可選（xuǎn）擇（zé）三（sān）角波、矩形波、正弦波三種波形，波形的（de）最高值和最（zuì）低值可獨立設置。
   B輸出電壓範圍：-40V~+40V。
   C波形頻率範圍：0.1-50Hz
   D三角波、矩形波占空比（bǐ）10%~90%
   E 可選擇手動控製/模擬量接口控製，可選配RS485通訊（xùn）接口。
采用先進的PWM脈寬調製技術，使用進（jìn）口IGBT或MOSFET作為功率開關器件，
體積小、重量輕、功能全、性能穩定可靠，生（shēng）產工藝嚴格完善。
該係（xì）列產品采用先進的DSP控製係統，充分保證鍍膜工藝的重複性，
並且具有抑製靶材弧光放電及抗短路功能，
具（jù）有極佳的負載匹配能力，既保證了靶麵清洗工藝的穩定性，又提高了靶麵清洗速度；
主（zhǔ）要參（cān）數均可大範圍連續調節；
方便維護，可靠性高（gāo）；
PLC接口和RS485接（jiē）口擴展功能，方便實現自動化（huà）控製。

主要用途：

MS係列勵磁多波（bō）形電（diàn）源選擇多種電壓波形輸出（chū）。通過驅動多弧靶外圍磁場（chǎng）線圈，產生周期（qī）性（xìng）可變（biàn）磁磁（cí）場，使多弧輝光由原來的集中放電（diàn）變為均勻放電，提高工件膜層質量

真空鍍膜電源廠家告訴你高（gāo）頻開關電鍍電源應用在金屬（shǔ）表麵處理及小（xiǎo）功率範（fàn）圍內的國內市（shì）場（chǎng）已經（jīng）接受，具有廣闊的市場前（qián）景。但產品主要局限於1500A以下的中小功率領域，在（zài）國內也（yě）隻（zhī）有少量（liàng）廠家生產，從技術角（jiǎo）度看主要限於硬開關變換模式（shì）和（hé）模擬控製方式（shì），可靠性、EMC及工藝結構等方麵具有明顯的局限性，同焊接等領（lǐng）域全麵推廣應用開關式電源的景況具有較大差距。

真空鍍膜是指在（zài）高真空的條件下加熱金（jīn）屬（shǔ）或非金屬材料，使其蒸發（fā）並凝結（jié）於鍍件（金屬、半（bàn）導體或絕緣體）表（biǎo）麵而形成薄膜的一種方法。

真空鍍膜這一塊是真空應用領域的重要方麵，在真空中以真空技術為基礎，把物理方法和化學方法利用起來，通過吸收分子束、離子束（shù）、電子束、等離子束（shù）、射頻和磁控等一係列高新技術，在科學研究和實際生（shēng）產中，為薄膜製備提供一種新工藝，簡單的一（yī）點來說，要在真空中利用合金、金屬（shǔ）或化合物進行蒸發和（hé）濺射（shè），並讓被塗覆的物體（有基片、稱基板、基體等等）進行凝固並沉積，這種方法稱為真空鍍膜，那真空鍍膜（mó）電源就可想而知，眾所周知，在一（yī）些材料（liào）的表麵上鍍上一層薄膜，就可以使這種（zhǒng）材料具（jù）有多種（zhǒng）性能，例如良好的物理和化學性能並且是嶄新的；