了（le）解真空鍍膜和光學鍍膜的（de）區別

1、概念差異（yì）

1. 真空鍍膜是（shì）指在高真空條件下加熱（rè）金屬（shǔ）或非金屬材料，使其在被鍍件(金屬、半導體或絕緣體)表麵蒸（zhēng）發凝結形成（chéng）薄膜的一種方法。如真空鍍鋁、真（zhēn）空（kōng）鍍（dù）鉻等。

2. 光學鍍膜是指在（zài）光學元件表麵塗覆一層(或多層（céng）)金屬(或（huò）介電)薄膜的工藝。在光學元件表麵塗膜的目的是為了（le）減少或增（zēng）加光的反射、分束、分色、過濾、偏振等要求。常用的包覆方法有真空包覆(物（wù）理包覆的一種)和化學包（bāo）覆。

2、原則差異（yì）

1. 真空鍍膜（mó）是真空應用的一個重要方（fāng）麵（miàn），它以真空技術為基礎，利用物理或化學方法，吸（xī）收了電子束、分子束、離子束、等離子體束、射頻、磁控管等一係列新技術，為科學（xué）研究和（hé）實際生產提供了薄膜製備的新工藝。簡單地說，就是在真空中蒸發（fā）或濺（jiàn）射金屬、合金或（huò）化合物（wù）以使其凝固（gù）並沉積在塗層物體(稱（chēng）為基材、襯底或襯底)上的方法。

2. 光的幹涉在薄（báo）膜光學中有著廣泛的應用。光學薄膜（mó）技術常用的（de）方法是通過真空濺射在玻璃（lí）基板上塗覆薄膜，一般用來控製基板對入射光（guāng）束的反射率和透射率（lǜ），以滿足不同的需要。為了消除光學元件表麵（miàn）的反射損失，提高成像質量，在表麵塗上一層或多層透明的介電膜，稱為抗反射（shè）膜或抗反射膜。

隨著激光技術的發展，對膜層的反射率和透射（shè）率有了不同的要（yào）求（qiú），促進了多層（céng）高反射膜和寬帶增透膜的發展。為滿足各種應用的需（xū）要（yào），采用（yòng）高反射（shè）膜製造偏光反射（shè）膜、彩色光譜（pǔ）膜、冷光（guāng）膜（mó）、幹涉濾光片等。光學元件表麵塗覆後，光在膜層上多次反射透射，形成多束幹涉。通過控製膜層的折射率和厚度，可以得到不（bú）同的光強分布，這（zhè）是幹涉鍍膜的基本原理。

3、方法和材料的差（chà）異

1. 真空（kōng）鍍膜法

(1)真空蒸發鍍:將待鍍基（jī）材清洗幹淨，放入鍍膜室。抽真空後，將薄膜材料加熱到高（gāo）溫，使蒸氣達到約13.3Pa，使蒸氣分子飛（fēi）到基片表麵，凝結成薄膜。

(2)陰 極濺（jiàn）射鍍:將待鍍基材（cái）置於陰 極（jí）的對麵，在真空室中引入惰（duò）性氣體(如氬氣)，保持壓力約（yuē）1.33-13.3Pa，然（rán）後將陰 極（jí）接在2000V直流電（diàn）源上刺激輝光放（fàng）電。正氬離子撞擊陰 極，使其釋放出原子。濺落的原子通過惰（duò）性氣氛沉積在襯底上，形成薄膜（mó）。

(3)化學氣相（xiàng）沉積:通（tōng）過對選（xuǎn）定（dìng）的金屬或有機化（huà）合物進行熱分解得到沉積（jī）薄膜的過（guò）程。

(4)離子鍍:離子鍍本質上是真空蒸發（fā）鍍和（hé）陰（yīn） 極濺射（shè）鍍的有機結合，具有兩者的（de）工藝特點。各種（zhǒng）塗覆方式的優缺（quē）點（diǎn）如表6-9所（suǒ）示。

2. 光學鍍膜方法用材料

(1)氟化鎂:純度高的無色四（sì）方結晶粉末，用於光學鍍膜，提高透光率，防止坍塌點。

(2)二氧化矽:無色透（tòu）明晶體，熔點高，硬度高，化學穩定性好。純度高，用於製備高品質SiO2塗層，蒸發狀態好，無坍（tān）塌點（diǎn）。根據使用要求分為紫外（wài）線、紅外線和可見光。

(3)氧化鋯（gào）:白色（sè）重晶態，具（jù）有高折射（shè）率和耐高溫性能，化學性質穩定，純度高。用於（yú）製備無坍（tān）塌（tā）點的高質量氧化鋯塗層。