了解真空鍍（dù）膜和光學鍍膜的區別

1、概念差異

1. 真空（kōng）鍍（dù）膜是指在高真空條（tiáo）件下加熱金屬或非金屬材料（liào），使其在被鍍件(金屬、半導體或絕緣體)表麵蒸發凝結（jié）形成薄膜的一種方法。如真（zhēn）空鍍鋁、真空鍍鉻等。

2. 光學鍍膜是指在光學元件表麵塗覆一層(或多層)金屬(或介電)薄膜的工藝（yì）。在光（guāng）學（xué）元件表麵塗膜（mó）的目的是為了減少或增加光的反射、分束、分（fèn）色、過濾（lǜ）、偏振等要求。常用的包覆方法有真空包覆(物理包覆（fù）的一種)和化學包覆。

2、原則差異

1. 真空鍍膜是真空應用的一個重要方麵，它以真空技術為基礎，利用物理或化學方法，吸收了電子束、分子束、離子束、等（děng）離子體束（shù）、射頻、磁控管等一係列（liè）新技術，為科學研究和實際生產（chǎn）提供了薄（báo）膜製備的（de）新工藝。簡單地說，就是在真空中蒸發或（huò）濺射金（jīn）屬、合金或化合物以使其凝固並沉積（jī）在塗層物體(稱為基材、襯底或襯底)上的方（fāng）法。

2. 光的幹涉（shè）在薄膜光學中有著廣泛（fàn）的應用。光學薄膜技術常（cháng）用的方法是（shì）通過真空濺射（shè）在玻璃基板上（shàng）塗覆薄膜，一般用來控製基板對入射光束的反射率和透射率（lǜ），以（yǐ）滿足不（bú）同的需要。為了消除光學元件表麵的反射損失（shī），提高成像質量，在表（biǎo）麵塗上一層或多層透明的介（jiè）電膜（mó），稱為抗反射膜或抗反射膜。

隨著激光技（jì）術的（de）發展（zhǎn），對膜層的反射率和（hé）透射率有了不同的要求，促進了多層高反射膜和寬帶增透膜的發展。為滿足各種應用的需要，采用高反射（shè）膜製造偏光反射膜、彩色光譜膜、冷光膜、幹涉（shè）濾光片等。光學元件（jiàn）表（biǎo）麵塗（tú）覆後，光在（zài）膜（mó）層上多次反射透射，形成多（duō）束（shù）幹涉。通過控製膜層的折射率和厚（hòu）度，可以得到（dào）不同的光強分布，這是幹涉鍍膜的基本原理。

3、方法和材料（liào）的差異

1. 真空鍍膜法

(1)真空（kōng）蒸發鍍（dù）:將待鍍基材清洗幹淨，放入鍍膜室。抽真空後，將薄膜材料加（jiā）熱到高溫，使（shǐ）蒸氣達到約13.3Pa，使蒸氣分子飛到基片表（biǎo）麵，凝結成薄膜（mó）。

(2)陰 極濺射鍍（dù）:將待鍍基材置於陰 極的（de）對麵（miàn），在（zài）真空室中引入惰性氣體(如氬氣（qì）)，保持壓力約1.33-13.3Pa，然後將陰 極接在2000V直流電（diàn）源上刺激輝光（guāng）放電（diàn）。正氬離（lí）子撞擊陰（yīn） 極，使其釋放出（chū）原子。濺落的原子通過惰性氣氛沉（chén）積（jī）在襯底上，形成薄膜（mó）。

(3)化學氣相沉積:通過對選定的金屬（shǔ）或有機（jī）化合物進行熱分解得到沉積薄膜的過程。

(4)離子鍍:離子鍍本質上是真空蒸發（fā）鍍和陰 極濺射鍍的有機結合，具有兩者的工藝特點（diǎn）。各種（zhǒng）塗覆方式（shì）的優缺點（diǎn）如表6-9所示。

2. 光學鍍膜方法用材料

(1)氟化鎂:純度高的無色四方結晶粉末，用於（yú）光學鍍膜，提高（gāo）透光率（lǜ），防止坍塌點（diǎn）。

(2)二氧化矽:無色透明（míng）晶體，熔點高，硬度高，化學穩定性好。純（chún）度高（gāo），用於製備（bèi）高品質SiO2塗層，蒸發狀態好，無坍塌點。根據使用要求分為紫外線、紅外線和可見光。

(3)氧化鋯:白色重晶態，具有高折射率和耐高溫（wēn）性能，化學性質穩定，純度高。用於製備無坍塌（tā）點的高質量氧（yǎng）化鋯塗（tú）層。