主要型號:
型號 | 功率(W) | 工作電壓(V) | 最大峰值電流(A) | 外形尺寸 | 冷卻方式 |
MS-10A | 400W | -40~+40 | -10~+10 | 482*175*550 (WHD)[4U] | 風冷 |
MS-20A | 800W | -40~+40 | -20~+20 | ||
MS-30A | 1200W | -40~+40 | -30~+30 |
主要特點:
A 可選(xuǎn)擇三角波、矩形(xíng)波、正弦波三種波形,波形的最高值和最低值(zhí)可獨(dú)立設置。
B輸出電壓範圍:-40V~+40V。
C波形(xíng)頻率範圍:0.1-50Hz
D三(sān)角波、矩形波占(zhàn)空比10%~90%
E 可(kě)選擇手動控製/模擬量接口控製,可選配(pèi)RS485通訊接口。
采用先進的PWM脈寬調製(zhì)技術,使用進口IGBT或(huò)MOSFET作為功率開關器件,
體積小(xiǎo)、重量輕、功(gōng)能全、性(xìng)能穩定可靠,生產工藝嚴(yán)格完善。
該係列產品采用先進的DSP控製係統,充分保證鍍膜工藝的(de)重(chóng)複性(xìng),
並且(qiě)具有抑(yì)製靶材弧(hú)光放電及抗短路功能,
具有(yǒu)極佳的負載匹配能力,既保證了(le)靶麵清洗工藝的穩定性,又提高了靶麵清洗速度;
主要參數均可大範圍連續調節;
方便維護,可靠性(xìng)高;
PLC接(jiē)口和RS485接口擴展功能,方便實(shí)現自動化控製。
主要用途:
MS係列勵磁多波形電源選擇多種電壓波形(xíng)輸出。通過驅動多弧靶外圍磁場線圈,產生周期性可變磁磁(cí)場,使(shǐ)多弧輝(huī)光由原來(lái)的集中放電(diàn)變為均勻放電,提高工件膜層質量(liàng)

真空鍍膜電源廠家告訴你高頻(pín)開關電(diàn)鍍電源應(yīng)用在金屬表麵處理及(jí)小(xiǎo)功率範(fàn)圍內的(de)國內市場已經接受,具有廣闊的市場前景。但產品主要局限(xiàn)於1500A以下的(de)中小功率領域,在國內也隻有少量(liàng)廠家生產(chǎn),從技術角度看主要限於硬開(kāi)關(guān)變換模式和模擬控製方式,可靠性、EMC及工藝結構等方麵具有明顯的局限性,同焊接等領域全麵推廣應用開關(guān)式(shì)電源的景況具有較大差距。
真空鍍膜是指在高真空(kōng)的條件下加熱金屬或非金屬材料,使其蒸(zhēng)發並凝結於鍍件(金屬、半導體或絕緣體)表麵而形成(chéng)薄膜的一種(zhǒng)方法(fǎ)。
真空鍍膜這一塊是真空應用領域的重要方麵,在真空中(zhōng)以真空技術為基礎,把物理方法和化學方法利用起來,通過吸收分子束、離子束(shù)、電子(zǐ)束、等離子束(shù)、射頻和磁控等一係列高新技(jì)術,在科學研究(jiū)和實際生產(chǎn)中,為薄膜製備提供一種新工藝,簡(jiǎn)單的一點來說,要在真空中利用合金、金屬或化合(hé)物進行蒸發(fā)和濺射,並讓被塗覆的物體(有基片、稱基板、基體等等)進(jìn)行凝固並沉積,這種方(fāng)法稱(chēng)為真空鍍膜,那真空鍍膜(mó)電源就可想而知,眾所周知,在一些材料的表麵上鍍上一層薄膜,就可以使(shǐ)這種材料具有多種性能,例如良好的物理(lǐ)和化學(xué)性能並且是嶄新(xīn)的;
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